ORMOCER®e für optische Anwendungen

Die Möglichkeit, viele Strukturierungstechniken zu nutzen, die sehr gute Haftung auf den unterschiedlichsten Materialien sowie kontrolliert einstellbare optische Eigenschaften zeigen, daß ORMOCER®e zur Herstellung von optischen Mikrosystemem hervorragend geeignet sind.

Die Kompatibilität zur herkömmlichen Dünnfilmtechnologie, anspruchslose Verarbeitung (Härtetemperatur < 170 °C unter Normalatmosphäre) und Möglichkeiten der Erzeugung von Mikrostrukturen (z. B. Wellenleiter, Strahlverzweiger) garantieren ein Höchstmaß an Flexibilität und Anpassungsmöglichkeiten, wobei ORMOCER®e ein Negativresist-Verhalten zeigen.

Erzeugung von Mikrostrukturen durch:

  • Standard-Photolithographieprozeß
  • Laserablation
  • Laserdirektschreiben
  • (Präzisions-) Prägen

(c) Fraunhofer ISC

(c) Fraunhofer ISC

(c) Fraunhofer ISC

(c) Fraunhofer ISC

Wellenlänge [nm] Dämpfung [dB/cm]    
633 0,06    
1320 0,20    
1550 0,50    

Brechzahl nD: von ca. 1,45 bis 1,58
E-Modul: 2,5 GPa (einstellbar)
Lötstabilität: 300 °C / < 30 min
Thermisch stabil: bis 300 °C (TG/MS, 5 % Masseverlust)